Intel planuoja įsisavinti 7 nm technologinį procesą 2017 metais


Kompanija Intel jau kurį laiką mėgsta pabrėžti, kad yra lyderė litografinių procesų srityje, todėl ir kiekvienoje IDF 2013 sesijoje procesorių gamintojas vis primena, kaip smarkiai, beviltiškai nuo jos atsilikę konkurentai, ir dabartinis renginys išimtimi netapo.

Kompanijos Intel prezidentė Renee James savo pasirodymo metu pademonstravo dabartinį Intel planą, kuris numato naujų technologinių procesų įsisavinimą. Kiek anksčiau Intel generalinis direktorius Brian Krzanich paminėjo, jog pirmieji 14 nm Broadwell procesorių egzemplioriai partnerius pasieks 2013 metų pabaigoje, tuo tarpu serijiniuose produktuose jie atsiras ne anksčiau 2014 metų antros pusės.

Šie pareiškimai aiškiai atsispindi žemiau pateiktoje skaidrėje – 14 nm technologijos įsisavinimo metais Intel laiko būtent 2013-uosius. Po poros metų procesorių gigantas ketina įsisavinti 10 nm litografiją, o 2017 metais bus įveikta ir 7 nm riba.

7nm_intel_roadmap

Tokiu būdu, Intel turi priežastį dar kartą pareikšti, kad taip vadinamas Mūro dėsnis ir toliau gyvuoja bei gyvuos dar mažiausiai po penkerių metų. Tiesa, visa tai tiesa tik tuo atveju, jei nekils kokių nors nesklandumų su gamybos atnaujinimu bei galimais broko atvejais, kurie galėtų užvėlinti naujų procesorių pasirodymą.

Reikia pažymėti, kad kontraktinis gamintojas TSMC savo gamyklose 10 nm technologinį procesą ims taikyti ne anksčiau kaip 2017 metais, ir tik vėliau pradės galvoti apie 7 nm.

Beje, iki to laiko rinkos lyderiai savo gamyklose imsis 450 mm dydžio silicio plokštelių apdorojimo. Plokštelės diametro dydžio padindimas pusantro karto nuo dabartinių 300 mm leis ne tik padidinti mikroschemų gamybos apimtis, tačiau ir sumažinti savikainą – aišku, tai įvyks tik tada, kai visi įsitikins, jog investicijos atsipirks per priimtiną laikotarpį.

Komentuoti nebegalima


Kitos kategorijos naujienos